- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
本设备为桌面型石英腔体单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
本套配置采用石英真空腔体，镀膜过程全向可视，便于实验的观察记录，腔体设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用?？榛杓疲僮髀呒虻ィ僮鹘缑嬷惫?，利于上手
技术参数：
|
产品名称 |
小型台式单靶磁控溅射镀膜仪 |
|
|
产品型号 |
CY-MSZ180-I-DC-Q |
|
|
样品台 |
外形尺寸 |
φ100mm |
|
震动频率 |
20Hz-20000Hz |
|
|
磁控靶枪 |
配一支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50mm，厚度≦3mm |
|
|
真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ180mm X 200mm |
|
观察窗口 |
全向透明 |
|
|
腔体材料 |
高纯石英 |
|
|
开启方式 |
上盖拆卸式 |
|
|
真空系统 |
前级泵 |
低噪音双极旋片泵 |
|
分子泵 |
低噪音大抽速涡轮分子泵 |
|
|
真空测量 |
复合真空计，量程:10-5~105Pa |
|
|
抽气接口 |
KF40 |
|
|
排气接口 |
KF16 |
|
|
系统真空 |
1.0×10-4Pa |
|
|
供电电源 |
AC 220V 50/60Hz |
|
|
抽气速率 |
分子泵抽速600L/s，前级泵抽速1.1L/s |
|
|
电源配置 |
电源数量 |
直流电源一套 |
|
输出功率 |
300W |
|
|
其他参数 |
供电电压 |
AC220V,50Hz |
|
整机功率 |
2kW |
|
|
整机尺寸 |
550mm X 350mm X1200mm |
|
